Влияние добавки водорода на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы тетрафторметана

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Исследовано влияние добавки водорода на электрофизические параметры и спектры излучения тетрафторметана в условиях тлеющего разряда постоянного тока. Установлено, что температуры газа нелинейно изменяется с увеличением доли водорода в плазмообразующей смеси. Получены и проанализированы спектры излучения плазмы тетрафторметана с водородом. Показано, что излучение плазмы представлено атомарными и молекулярными компонентами, а зависимости интенсивностей излучения линий от внешних условий разряда определяются возбуждением излучающих состояний при прямых электронных ударах.

Полный текст

Доступ закрыт

Об авторах

Д. Б. Мурин

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования “Ивановский государственный химико-технологический университет”

Автор, ответственный за переписку.
Email: dim86@mail.ru
Россия, Иваново

А. Ю. Граждян

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования “Ивановский государственный химико-технологический университет”

Email: dim86@mail.ru
Россия, Иваново

И. А. Чесноков

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования “Ивановский государственный химико-технологический университет”

Email: dim86@mail.ru
Россия, Иваново

И. А. Гогулев

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования “Ивановский государственный химико-технологический университет”

Email: dim86@mail.ru
Россия, Иваново

Список литературы

  1. Данилин Б.С., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов / Под ред. Б.С. Данилина. М.: Энергоатомиздат, 1987. 264 с.
  2. Светцов В.И., Ефремов А.М. Вакуумная и плазменная электроника: учеб. пособие. Иван. гос. хим.-технол. ун-т. Иваново, 2003. 171 с.
  3. Wolf S., Tauber R.N. Silicon Processing for the VLSI Era. V. 1. Process Technology. N. Y.: Lattice Press, 2000. 890 p.
  4. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Кинетика гетерогенной гибели атомов хлора и водорода в плазме бинарных смесей HCl + Ar, H2, O2 и Cl2 // Химия высоких энергий. 2015. Т. 49. № 4. С. 318.
  5. Ефремов А.М., Мурин Д.Б. Электрофизические параметры плазмы бинарных смесей HCl + Ar, He, H2, O2 и Cl2 // Известия высших учебных заведений. Серия: химия и химическая технология. 2021. Т. 58. № 4. С. 14—18.
  6. Пивоваренок С.А., Мурин Д.Б., Граждян А.Ю. Влияние состава смеси на электрофизические параметры и спектры излучения плазмы тетрафторметана и трифторметана с азотом // Химия высоких энергий. 2023. Т. 57. № 2. С. 144—148.
  7. Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И., Пивоваренок С.А., Годнев Е.М. Интенсивности излучения и концентрации нейтральных частиц в плазме тлеющего разряда постоянного тока в смесях HCl—H2 и HCl—O2 // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2013. Т. 56. № 8. С. 41—44.
  8. Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И., Пивоваренок С.А., Овцын А.А., Шабадаров С.С. Интенсивности излучения и концентрации активных частиц в плазме тлеющего разряда в смесях хлористого водорода с аргоном и гелием // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. 2013. Т. 56. № 4. С. 29—32.
  9. Лебедев Ю.А. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука, 1981. 142 с.
  10. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света. 2-е изд., перераб. и доп. М.: Энергатомиздат, 1991. 720 с.
  11. Мурин Д.Б., Дунаев А.В. Электрофизические параметры и спектры излучения плазмы трихлорида бора // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 2. С. 106—114.
  12. Пирс Р., Гейдон А. Отождествление молекулярных спектров. М.: Изд. иностр. лит., 1949. 540 с.
  13. Свентицкий А.Р., Стриганов Н.С. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизованных атомов. М. : Атомиздат, 1966. 900 с.
  14. Мурин Д.Б., Пивоваренок С.А., Чесноков И.А., Гогулев И.А. Электрофизические характеристики и эмиссионные спектры плазмы тетрафторметана // Микроэлектроника. 2023. Т. 52. № 1. С. 11—19.
  15. Ефремов А.М., Kвoн K.H., Мурин Д.Б. Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смесях CF4(CHF3) + Ar переменного начального состава // Микроэлектроника. 2018. Т. 47. № 6. С. 414—423.
  16. Ефремов А.М., Мурин Д.Б., Kвoн K.-H. Параметры плазмы и механизмы травления кремния в смеси CF4 + CHF3 + O2 // Микроэлектроника. 2019. T. 48. № 6. C. 1—9.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
Скачать
2. Рис. 1. Зависимости удельной мощности, вкладываемой в разряд, от доли водорода в смеси CF4/H2.

Скачать (97KB)
Метаданные
3. Рис. 2. Зависимости температуры газа от доли водорода в смеси CF4/H2.

Скачать (98KB)
Метаданные
4. Рис. 3. Зависимости параметра приведенной напряженности электрического поля E / N от доли водорода в смеси с CF4/H2 для i = 15 и 25 мА.

Скачать (102KB)
Метаданные
5. Рис. 4. Обзорный спектр излучения плазмы CF4/H2 (p = 100 Па, i = 25 мА).

Скачать (134KB)
Метаданные
6. Рис. 5. Зависимость интенсивности излучения атомов F (а) и H (б) от доли H2 в смеси CF4/H2, i = 25 мА.

Скачать (166KB)
Метаданные
7. Рис. 6. Зависимость интенсивности излучения молекул от доли H2 в смеси CF4/H2, i = 25 мА.

Скачать (126KB)
Метаданные

© Российская академия наук, 2024