Author Details
Пивоваренок, С. А.
Issue | Section | Title | File |
Vol 52, No 1 (2023) | ДИАГНОСТИКА | Controlling Silicon Etching Parameters in RF CHF3 Plasma by Optical Emission Spectroscopy | |
Vol 52, No 1 (2023) | ДИАГНОСТИКА | Электрофизические характеристики и эмиссионные спектры плазмы тетрафторметана |