Физико-химические методы анализа содержания микропримесей в пероксиде водорода
- Авторы: Глушко А.Н.1,2, Гогуев Н.С.2,3, Буряк А.К.1, Гусейнов Ш.Л.3
-
Учреждения:
- ФГБУН Институт физической химии и электрохимии им. А. Н. Фрумкина РАН
- АО “ЦЭНКИ” – “Научно-производственный центр компонентов ракетных топлив”
- АО “ГНИИХТЭОС”
- Выпуск: Том 99, № 8 (2025)
- Страницы: 1248-1257
- Раздел: ФИЗИЧЕСКАЯ ХИМИЯ ПРОЦЕССОВ РАЗДЕЛЕНИЯ. ХРОМАТОГРАФИЯ
- Статья получена: 06.11.2025
- Статья опубликована: 15.08.2025
- URL: https://kazanmedjournal.ru/0044-4537/article/view/695899
- DOI: https://doi.org/10.7868/S3034553725080175
- ID: 695899
Цитировать
Полный текст
Аннотация
Для развития ряда наукоемких областей промышленности Российской Федерации существует потребность в пероксиде водорода с низким содержанием примесей (до значений 1×10–8%). Опыт производства и контроля качества такого пероксида водорода на отечественных предприятиях в настоящее время отсутствует, в связи с этим актуальны вопросы оценки возможности применения и адаптации существующих методов определения содержания микропримесей в пероксиде водорода и внедрения современного аналитического оборудования. Исследованы коммерчески доступные на территории Российской Федерации марки пероксида водорода.
Об авторах
А. Н. Глушко
ФГБУН Институт физической химии и электрохимии им. А. Н. Фрумкина РАН; АО “ЦЭНКИ” – “Научно-производственный центр компонентов ракетных топлив”
Email: 167311@gmail.com
Москва, Россия; Москва, Россия
Н. С. Гогуев
АО “ЦЭНКИ” – “Научно-производственный центр компонентов ракетных топлив”; АО “ГНИИХТЭОС”Москва, Россия; Москва, Россия
А. К. Буряк
ФГБУН Институт физической химии и электрохимии им. А. Н. Фрумкина РАНМосква, Россия
Ш. Л. Гусейнов
АО “ГНИИХТЭОС”Москва, Россия
Список литературы
- Tingting Li, Yangfan Li, Fan Zhang et al. // Crystals. 2023. V. 13. № 7. P. 1127. https://doi.org/10.3390/cryst13071127.
- Сагындыков А.Б., Калкозова Ж.К., Яр-Мухамедова Г.Ш. и др. // Журн. техн. физики. 2017. Т. 87. № 11. С. 1673. https://doi.org/10.21883/JTF.2017.11.45127.2211
- Koval V., Yakymenko Y., Ivashchuk A. et al. // IEEE39th Int. Conf. on Electr. and Nanotech. 2019. P. 282. https://doi.org/10.1109/ELNANO.2019.8783506
- Binoy Bera // Int. J. of Appl. Nanotechnology. 2019. V. 5. № 1. P. 8. https://doi.org/
- Dusheiko M.G., Koval V.M., Obukhova T.Y. // Semiconductor Phys., Quantum Electr. and OE. 2022. V. 25. № 1. P. 58. https://doi.org/ 10.15407/spqeo25.01.058
- Lidsky D., Cain J.M., Hutchins-Delgado T. et al. // Nanotechnology. 2023. V. 34. № 6. P. 8. https://doi.org/10.1088/1361-6528/ac810c.
- Rogovoi M.S., Tulenin, S. S., Novotorkina D.A. // Russian J. of Appl. Chem. 2020. V. 93. № 10. P. 1533. https://doi.org/10.1134/S1070427220100079
- Никонов А.М., Наумова О.В., Генералов В.М. и др. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исслед.2020. № 4. С. 24. https://doi.org/10.31857/s1028096020040111
- Baraissov Z., Pacco A., Koneti S. et al. // ACS Appl. Mater. Interfaces. 2019. V. 11. № 40. P. 36839. https://doi.org/10.1021/acsami.9b11934.
- Шангереева Б.А., Муртазалиев А.И., Шангереев Ю.П. // Инновационная наука. 2015. № 11/2015. C. 133.
- Saidov K., Erofeev I., Aabdin Z. et al. // Advanced Functional Mater. 2023. V. 34. № 12. P. 9. https://doi.org/10.1002/adfm.202310838
- Прохоров Л.Г., Светаев А.В., Лунин Б.С. и др. // Физ. и техн. полупроводников. 2020. Т. 54. № 1. С. 74. https://doi.org/10.21883/ftp.2020.01.48778.9245
- Leonardi A.A., Faro M.J.L., Irrera A. // Nanomaterials. 2021. V. 11. № 2. P. 383 https://doi.org/10.3390/nano11020383.
- Yajun Xu, Qichen Zhao, Jianian Chen et al. // Physica Scripta. 2024. V. 99, № 8. P. 085914. https://doi.org/10.1088/1402-4896/ad5b9a.
- Okninski A., Surmacz P., Bartkowiak B. et al. // Aerospace. 2021. V. 8. P. 234. https://doi.org/10.3390/aerospace8090234.
- Kopacz W., Okninski A., Kasztankiewicz A. et al. // FirePhysChem. 2022. V. 2. № 1. P. 56. https://doi.org/10.1016/j.fpc.2022.03.009.
- Levikhin A.A., Boryaev A.A. // Adsorption. 2024. V. 30. P. 2187. https://doi.org/10.1007/s10450-024-00547-7.
- Parzybut A., Surmacz P. // Space Technology Library. 2024. V. 44. P. 217. https://doi.org/10.1007/978-3-031-62574-9_8
- ГОСТ Р 50632–93 Водорода Пероксид Высококонцентрированный. Технические условия. Государственный стандарт Российской Федерации. дата введения 30.12.1993 // Госстандарт России. Москва. C. 51.
- ГОСТ 177–88 Водорода перекись. Технические условия. Межгосударственный Стандарт: дата введения 1989–07–01. Издание официальное. Москва. C. 12.
- ГОСТ 10929–76 Водорода Пероксид. Технические условия. Государственный Стандарт Союза ССР. дата введения 30.01.76. Издание официальное. Государственный комитет СССР по управлению качеством продукции и стандартам. Москва. C. 12
- SEMI C30-0301 Specifications and guidelines for hydrogen peroxide. 2001. P. 7.
Дополнительные файлы




