Отправить статью по E-mail 
Двухэтапная фотоэлектронная литография для работы с хрупкими наноструктурами
- Авторы: Мартанов С.Г.1, Таркаева Е.В.1, Иевлева В.А.1,2, Кунцевич А.Ю.1
-
Учреждения:
- Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук
- Национальный исследовательский университет “Высшая школа экономики”
- Выпуск: № 2 (2025)
- Страницы: 140-144
- Раздел: ЛАБОРАТОРНАЯ ТЕХНИКА
- URL: https://kazanmedjournal.ru/0032-8162/article/view/690634
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0032816225020189
- EDN: https://elibrary.ru/glimik
- ID: 690634
Цитировать
Полный текст
Открытый доступ
Доступ предоставлен
Доступ платный или только для подписчиков
Аннотация
Представлено дополнение к электронному литографу на основе оптического микроскопа для быстрого паттернирования крупномасштабных элементов методом контактной масочной фотолитографии в ультрафиолетовом излучении на электронном резисте. Прибор ускоряет создание контактных площадок к твердотельным микро- и наноструктурам и уменьшает риск потери образца при работе с хрупкими структурами.
Об авторах
С. Г. Мартанов
Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук
Email: alexkun@lebedev.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский просп., 53
Е. В. Таркаева
Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук
Email: alexkun@lebedev.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский просп., 53
В. А. Иевлева
Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук; Национальный исследовательский университет “Высшая школа экономики”
Email: alexkun@lebedev.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский просп., 53; Россия, 101000, Москва, Мясницкая ул., 20
А. Ю. Кунцевич
Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук
Автор, ответственный за переписку.
Email: alexkun@lebedev.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский просп., 53
Список литературы
- Carbaugh D.J., Pandya S.G., Wright J.T., Kaya S., Rahman F. // Nanotechnology. 2017. V. 28. P. 455301. https://doi.org/10.1088/1361-6528/aa8bd5
- Love J.C., Wolfe D.B., Jacobs H.O., Whitesides G.M. // Langmuir. 2001. V. 17. P. 6005. http://dx.doi.org/10.1021/la010655t
- Zheng L., Birr T., Zywiet U., Reinhardt C., Roth B. // Light: Advanced Manufacturing. 2023. V. 4. P. 33. http://dx.doi.org/10.37188/lam.2023.033
- Galiullin A.A., Pugachev M.V., Duleba A.I., Kuntsevich A.Yu. // Micromachines. 2024. V. 15. P. 39. https://doi.org/10.3390/mi15010039
- Rhee H.-G. Direct Laser Lithography and Its Applications // Lithography / Ed. by M.Wang. 2010. http://doi.org/10.5772/8167
- Pugachev M.V., Duleba A.I., Galiullin A.A., Kuntsevich A.Y. // Micromachines. 2021. V. 12. P. 850. https://doi.org/10.3390/mi12080850
Дополнительные файлы
